近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學(xué)EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，並表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。
對此，中國電子工程設(shè)計院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱該項目並非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
北京高能同步輻射光源項目坐落於北京懷柔雁棲湖畔，是國家「十三五」重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設(shè)，將於2025年底投入使用。
中國電子院解釋稱，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機，它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS是進行科學(xué)實驗的大科學(xué)裝置，並不是網(wǎng)傳的光刻機工廠。
頂圖：北京高能同步輻射光源項目實拍圖。圖源中國電子院
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